| Aplicação | Faixa de Tensão | Princípio |
|---|---|---|
| Forno a Arco Elétrico (EAF) | 400–800 V (secundário), 34.5–138 kV primário | Plasma de arco derrete sucata; alta corrente (50–100 kA) |
| Precipitador Eletrostático (ESP) | 50–150 kV CC | Corona carrega partículas → coletadas em placas |
| Raio-X / CT / Acelerador Linear | 50–300 kV (diagnóstico), 1–25 MV (terapia) | Produção bremsstrahlung |
| Aceleradores de Partículas (LHC, ERL) | MV–GV cavidades RF | Cavidades supercondutoras de nióbio a 1.9 K |
| Carregamento de Capacitor / Geradores Marx | 100 kV–10 MV | Potência pulsada, drivers de laser, teste EMP |
| Vantagens | Desvantagens |
|---|---|
| Menores perdas I²R para potência dada | Folgas maiores, estruturas mais altas |
| Condutores menores (menos Cu/Al) | Custo e complexidade de isolamento maiores |
| Econômico para longa distância | Perda corona e ruído audível (EAT CA) |
| Permite nova física (aceleradores, fusão) | Zonas de segurança estritas, preocupações CEM |
Alta tensão não é uma única tecnologia — é um domínio de tensão habilitador que sustenta entrega moderna de eletricidade, indústria pesada e ciência fundamental.
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